仪器编号：登录后查看
所属平台： 其他
仪器状态：
所属单位： 浙江大学 > 国际联合学院 > 微纳公共平台
仪器生产商： 英国牛津仪器等离子技术公司
购置日期： 2022-07-29
规格型号： Plasmarpo 80 RIE，单腔体机构有观察室
放置地址：1E105
仪器管理员：戈佳艳
联系电话：登录后查看
| 工作时间： | 08:30-17:00 |
|---|---|
| 最小可预约时间段： | 0.25 小时 |
| 最大可预约时间段： | 168 小时 |
| 日历最小单位： | 0.25 小时 |
| 最近提前预约时间： | 未授权用户: 0小时； 普通资格用户: 0小时； 资深资格用户: 0小时 |
| 最远提前预约时间： | 初级: 336 小时 0 点； 普通: 336 小时 0 点； 资深: 336 小时 0 点 |
| 最大有效预约次数： | 5 次/天 |
| 无代价撤销预约时间： | 1440 分钟 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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| 序号 | 标题 | 添加时间 |
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| 1 | 反应离子刻蚀系统 PlasmaPro 80 使用说明 | 2024-04-26 17:00:34 |
| 仪器介绍： | 0 |
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| 主要参数： | 1、对于SiO2的刻蚀速率：40nm/min；2、片间均匀性：0.53%；3、刻蚀选择比：光刻胶=3.2:1；4、刻蚀侧壁倾角：75.65°；5、对于SiNx的刻蚀速率：88nm/min；6、片间均匀性：0.49%；7、刻蚀选择比：光刻胶=1.8:1；8、刻蚀侧壁倾角：73.01°。 |
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