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原子层薄膜沉积设备

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原子层薄膜沉积设备

原子层薄膜沉积设备

仪器编号:登录后查看

所属平台: 其他

仪器状态:

所属单位: 浙江大学 > 材料科学与工程学院 > 半导体材料研究所

仪器生产商: 南京原磊纳米材料有限公司

购置日期: 2024-04-18

使用模式: 送样预约

规格型号: Elegant II-Y200

放置地址:浙江省杭州市萧山区建设三路733号浙江大学杭州国际科创中心(信息港园区)

仪器管理员:皮孝东

联系电话:登录后查看

工作时间: 09:00-12:00;14:00-18:00
最小可预约时间段: 0.5 小时
最大可预约时间段: 168 小时
日历最小单位: 0.5 小时
最近提前预约时间: 未授权用户: 72小时; 普通资格用户: 72小时; 资深资格用户: 48小时
最远提前预约时间: 初级: 720 小时 0 点; 普通: 720 小时 0 点; 资深: 720 小时 0 点
最大有效预约次数: 4 次/天
无代价撤销预约时间: 1440 分钟
序号 标题 文件数量 添加时间 操作
序号 标题 添加时间
暂无数据
仪器介绍:
  1.  设备主腔体采用双腔(真空腔+反应腔)热壁反应腔室设计。

  2.  进样室配置loader-lock系统。

  3.  反应腔工艺温度为室温至450℃,温控精度满足±1℃以内。

  4.  反应腔体可以用来沉积8英寸(200mm)的衬底,兼容8英寸以下的衬底。

  5.  可通过水氧法生长氧化物材料,等离子体生长氮化物材料,配备的金属源有Al、Ti、Hf。

主要参数: