仪器编号：登录后查看
所属平台： 其他
仪器状态：
所属单位： 浙江大学 > 国际联合学院 > 微纳公共平台
仪器生产商： 中国科学院微电子研究所
购置日期： 2016-10-25
规格型号： HQ-8B
放置地址：1E105
仪器管理员：戈佳艳
联系电话：登录后查看
| 工作时间： | 08:30-17:00 |
|---|---|
| 最小可预约时间段： | 0.25 小时 |
| 最大可预约时间段： | 168 小时 |
| 日历最小单位： | 0.25 小时 |
| 最近提前预约时间： | 未授权用户: 0小时； 普通资格用户: 0小时； 资深资格用户: 0小时 |
| 最远提前预约时间： | 初级: 336 小时 0 点； 普通: 336 小时 0 点； 资深: 336 小时 0 点 |
| 最大有效预约次数： | 5 次/天 |
| 无代价撤销预约时间： | 1440 分钟 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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| 序号 | 标题 | 添加时间 |
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| 暂无数据 | ||
| 仪器介绍： | 等离子增强化学气相淀积设备是一种用于在基片上生成高质量SiNx和SiO2薄膜的专用设备。 |
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| 主要参数： | 反应室真空5×10－4Pa。极限真空：5E-6Torr。载片台可加温100～450度。沉积材料：SiO2、Si3N4、GeO2可进行氘离子掺杂。工艺温度：最高400℃。样品尺寸：4英寸向下兼容。淀积不均匀性：≤±5％。 |
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