激光直写仪 - 仪器详情

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仪器介绍
主要参数

工作时间：	09:00-12:00;14:00-18:00
最小可预约时间段：	0.5 小时
最大可预约时间段：	168 小时
日历最小单位：	0.5 小时
最近提前预约时间：	未授权用户: 24小时；普通资格用户: 24小时；资深资格用户: 24小时
最远提前预约时间：	初级: 720 小时 0 点；普通: 720 小时 0 点；资深: 720 小时 0 点
最大有效预约次数：	5 次/天
无代价撤销预约时间：	1440 分钟

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仪器介绍：	在传统的激光刻蚀过程中，研究人员需要先利用特定图形的掩模板对光刻胶曝光。但是在产品研发阶段，样品图案是需要经常修改的，而掩模板的制作却非常耗时，不能满足研究者缩短研发周期的需求。激光直写系统则专门为研究机构提供了这样一个快捷灵活的解决方案。它可以在不需要掩模板的情况下，直接对光刻胶书写图案，从而使得激光刻蚀过程更加快捷方便，在研发初期可以大大缩短实验周期，节省时间。同时，这一设备具有256级灰阶，可以控制激光强弱，从而实现三维图形的曝光，可一次性得到不同高度的图形。

仪器介绍：

在传统的激光刻蚀过程中，研究人员需要先利用特定图形的掩模板对光刻胶曝光。但是在产品研发阶段，样品图案是需要经常修改的，而掩模板的制作却非常耗时，不能满足研究者缩短研发周期的需求。激光直写系统则专门为研究机构提供了这样一个快捷灵活的解决方案。它可以在不需要掩模板的情况下，直接对光刻胶书写图案，从而使得激光刻蚀过程更加快捷方便，在研发初期可以大大缩短实验周期，节省时间。同时，这一设备具有256级灰阶，可以控制激光强弱，从而实现三维图形的曝光，可一次性得到不同高度的图形。

主要参数：	1.最大加工芯片尺寸：直径≥100mm，厚度≥5mm2.直写激光分辨率小于2μm3.对准精度≤2μm4.405nm波长激光功率≥110mW5.激光直写速度≥6mm2/min,6.自动对焦精度：200nm7.寻址栅格：500nm8.最小步阶：100nm9.边缘粗糙度@1μm：120nm10.线宽均匀性@1μm：200nm11.灰度直写阶数:256级12.可识别设计文件格式：TIFF,CIF,BMP13.控制系统：笔记本电脑，预装WIN764bit操作系统，专用控制软件。14.预留升级接口，可升级激光器、高分辨率光学显微镜等。

主要参数：

1.最大加工芯片尺寸：直径≥100mm，厚度≥5mm2.直写激光分辨率小于2μm3.对准精度≤2μm4.405nm波长激光功率≥110mW5.激光直写速度≥6mm2/min,6.自动对焦精度：200nm7.寻址栅格：500nm8.最小步阶：100nm9.边缘粗糙度@1μm：120nm10.线宽均匀性@1μm：200nm11.灰度直写阶数:256级12.可识别设计文件格式：TIFF,CIF,BMP13.控制系统：笔记本电脑，预装WIN764bit操作系统，专用控制软件。14.预留升级接口，可升级激光器、高分辨率光学显微镜等。