仪器编号：登录后查看
所属平台： 其他
仪器状态：
所属单位： 浙江大学 > 信息与电子工程学院 > 信息与电子工程学院（直管）
仪器生产商： 江苏迈纳德微纳技术有限公司
购置日期： 2021-06-23
规格型号： MNT-PD1000z-L5S2G3,MNT-PD1000z-L5S2G3
放置地址：1E317
仪器管理员：管芙蓉
联系电话：登录后查看
| 工作时间： | 09:00-12:00;14:00-18:00 |
|---|---|
| 最小可预约时间段： | 0.5 小时 |
| 最大可预约时间段： | 168 小时 |
| 日历最小单位： | 0.5 小时 |
| 最近提前预约时间： | 未授权用户: 24小时； 普通资格用户: 24小时； 资深资格用户: 24小时 |
| 最远提前预约时间： | 初级: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点 |
| 最大有效预约次数： | 5 次/天 |
| 无代价撤销预约时间： | 1440 分钟 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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| 序号 | 标题 | 添加时间 |
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| 暂无数据 | ||
| 仪器介绍： | 原子层沉积系统（ALD）系统是专为研发沉积先进薄膜而设计，可升级成等离子增强原子层沉积系统（PEALD）。该系统可在各种衬底上沉积不同种类的薄膜。因为ALD是单原子层层层生长薄膜，所以相较于其他的薄膜沉积方法，ALD可制备非常纯的薄膜材料，并且能够精确控制薄膜的厚度和组分。同时沉积的薄膜与衬底具有非常陡直的界面和很好的保形性。 |
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| 主要参数： | 设备生产厂家：江苏迈纳德微纳技术有限公司设备型号：1.反应腔体是不锈钢制作，适用于处理最大直径4英寸,高度3mm的单片硅片平面衬底,可用于Al2O3，HfO2单层的生长；2.腔体为双腔体结构，最高加热温度300摄氏度；3.配备液态源、气态源及固态源等沉积前驱体，其中加热源系统可以独立加热到200摄氏度，液态源瓶容积为50ml；4.参考沉积速率：Al2O310nm/100cycle，HfO210nm/100cycle。 |
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