仪器编号：登录后查看
所属平台： 其他
仪器状态：
所属单位： 浙江大学 > 信息与电子工程学院 > 信息与电子工程学院（直管）
仪器生产商： Oxford Instruments Plasma Techno
购置日期： 2018-11-02
规格型号： PlasmaPro 100 Cobra 180,有效刻蚀尺寸：≤100 mm；刻蚀均匀
放置地址：海宁校区教学南区西侧（1E）317
仪器管理员：管芙蓉
联系电话：登录后查看
反应等离子刻蚀系统
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仪器生产商： Oxford Instruments Plasma Techno
购置日期： 2018-11-02
规格型号： PlasmaPro 100 Cobra 180,有效刻蚀尺寸：≤100 mm；刻蚀均匀
放置地址：海宁校区教学南区西侧（1E）317
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| 工作时间： | 09:00-12:00;14:00-18:00 |
|---|---|
| 最小可预约时间段： | 0.5 小时 |
| 最大可预约时间段： | 168 小时 |
| 日历最小单位： | 0.5 小时 |
| 最近提前预约时间： | 未授权用户: 24小时； 普通资格用户: 24小时； 资深资格用户: 24小时 |
| 最远提前预约时间： | 初级: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点 |
| 最大有效预约次数： | 5 次/天 |
| 无代价撤销预约时间： | 1440 分钟 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
|---|
| 序号 | 标题 | 添加时间 |
|---|---|---|
| 暂无数据 | ||
| 仪器介绍： | 可同步实现RIE/ICP刻蚀，配有EQP重点检测系统. |
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| 主要参数： | 刻蚀材料：各类氧化物、氮化物、硅、锗以部分金属材料；RF射频源：0-800W,13.56MHz;ICP离子源：0-3000W，13.56MHz；腔体温度：-20℃-60摄氏度；反应气体：N2、O2、Ar、C4F8、CHF3、SF6；极限真空：3E-6Torr；样品尺寸：小于4英寸； |
|---|