仪器编号:登录后查看
所属平台: 其他
仪器状态:
所属单位: 浙江大学 > 材料科学与工程学院 > 半导体材料研究所
仪器生产商: 嘉兴科民电子设备技术有限公司
购置日期: 2014-07-14
规格型号: KMP-100A-DT8,反应区尺寸:100mm(直径)*200mm
放置地址:105
仪器管理员:余学功
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工作时间: | 09:00-12:00;14:00-18:00 |
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最小可预约时间段: | 0.5 小时 |
最大可预约时间段: | 168 小时 |
日历最小单位: | 0.5 小时 |
最近提前预约时间: | 未授权用户: 24小时; 普通资格用户: 24小时; 资深资格用户: 24小时 |
最远提前预约时间: | 初级: 720 小时 0 点; 普通: 720 小时 0 点; 资深: 720 小时 0 点 |
最大有效预约次数: | 5 次/天 |
无代价撤销预约时间: | 1440 分钟 |
序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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序号 | 标题 | 添加时间 |
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暂无数据 |
仪器介绍: | 各类原子层精度的超薄纳米薄膜材料(金属、非金属、半导体及其氧化物等)的制造。 |
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主要参数: | 反应区:1.反应区尺寸:100mm(直径)*200mm(长);2.反应区温度:1000°C;3.基础真空:小于1*10^-3T;4.工作压力:10mT-700T.反应原料供应系统:1.供应线:两条输送线。每条输送线可输送反应物蒸汽,每条输送线可加热至150°C;2.连接阀:高密封金属VCR阀;3.固态或液态化学反应原料容器(2个):高密封,可加热,不锈钢容器,容积150mL,容器可加热至200°C;4.反应气体阀门控制:高速ALD控制阀,(开、关)响应时间10mS.过程控制、显示与记录系统:1.薄膜沉积过程的参数,如温度、压力、流量、时间等全部采用数字控制;2.薄膜沉积过程动态图像与数字显示;3.薄膜沉积过程计算机控制与记录;4.WindowsXP或Windows7系统PC及LCD显示器。 |
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