仪器编号:登录后查看
所属平台: 其他
仪器状态:
所属单位: 浙江大学 > 信息与电子工程学院 > 微纳加工中心
仪器生产商: 法国HORIBA
购置日期: 0000-00-00
规格型号: UVISEL
放置地址:玉泉校区微电子楼微纳加工中心超净室113
仪器管理员:刘艳华
联系电话:登录后查看
椭圆偏振光谱仪
椭圆偏振光谱仪
仪器编号:登录后查看
所属平台: 其他
仪器状态:
所属单位: 浙江大学 > 信息与电子工程学院 > 微纳加工中心
仪器生产商: 法国HORIBA
购置日期: 0000-00-00
规格型号: UVISEL
放置地址:玉泉校区微电子楼微纳加工中心超净室113
仪器管理员:刘艳华
联系电话:登录后查看
收藏
工作时间: | 08:30-17:30 |
---|---|
最小可预约时间段: | 0.25 小时 |
最大可预约时间段: | 8 小时 |
日历最小单位: | 0.25 小时 |
最近提前预约时间: | 未授权用户: 24小时; 普通资格用户: 1小时; 资深资格用户: 1小时 |
最远提前预约时间: | 初级: 720 小时 0 点; 普通: 720 小时 0 点; 资深: 720 小时 0 点 |
最大有效预约次数: | 5 次/天 |
无代价撤销预约时间: | 1440 分钟 |
序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
---|
检测项目名称:薄膜厚度及形貌分析
检测资质:无
检测单位:微纳加工中心
仪器数量:2
序号 | 标题 | 添加时间 |
---|---|---|
暂无数据 |
仪器介绍: | 测量膜厚、折射率、消光系数等信息。 |
---|
主要参数: | 1、测量范围:Psi= 0°– 90°,Delta= 0°– 360°,无死区。 2、测量精度:直射测量空气(Psi = 45°; Delta = 0°),满足Ψ≤45°0.01°,Δ≤0°0.01° (1.5eV-5eV)。 3、测量重复性:SiO2薄膜厚度测量10次的标准偏差1δ优于0.2?(样品100nm SiO2/Si),633nm处折射率< 0.0002。 4、测量光谱范围:247nm至2066nm。 5、使用宽光谱光弹调制晶体(PEM)调制信号偏振状态,弹性晶体光谱范围宽,红外波段可覆盖至2100nm。6、Ψ、Δ 全量程都无死角测量。7、手动量角器,角度可从45°到85°变化,最小步进为5°。8、样品台可放样品大小:最大直径200mm、最大厚度20mm,高度可调。 |
---|