仪器编号：登录后查看
所属平台： 其他
仪器状态：
所属单位： 浙江大学 > 国际联合学院（海宁国际校区） > 微纳公共平台
仪器生产商： SENTECH仪器（德国）有限公司
购置日期： 2023-03-24
规格型号： SI 500
放置地址：1E105
仪器管理员：戈佳艳
联系电话：登录后查看
| 工作时间： | 08:30-17:00 |
|---|---|
| 最小可预约时间段： | 0.25 小时 |
| 最大可预约时间段： | 168 小时 |
| 日历最小单位： | 0.25 小时 |
| 最近提前预约时间： | 未授权用户: 0小时； 普通资格用户: 0小时； 资深资格用户: 0小时 |
| 最远提前预约时间： | 初级: 336 小时 0 点； 普通: 336 小时 0 点； 资深: 336 小时 0 点 |
| 最大有效预约次数： | 5 次/天 |
| 无代价撤销预约时间： | 1440 分钟 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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| 序号 | 标题 | 添加时间 |
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| 暂无数据 | ||
| 仪器介绍： | 该设备采用反应离子刻蚀模式，实现对硅和硅化合物、例如SiO2、SiNx、SiC等材料的干法刻蚀。 |
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| 主要参数： | 1.样品尺寸：兼容6英寸及以下尺寸的晶圆和碎片； 2.反应腔本底真空度≤1E-6mbar，漏率2E-4mbar•l/s； 3.预真空室：配置独立干泵，本底真空≤0.1mbar，漏率≤5E-4mbar•l/s； 4.控温范围-30°C…+250℃，控温精度±1℃； 5.射频源：频率13.56MHz，功率600W，反射功率<5%。 |
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