仪器编号：登录后查看
所属平台： 其他
仪器状态：
所属单位： 浙江大学 > 信息与电子工程学院 > 微纳加工中心
仪器生产商： 美国Veeco Process Equipment Inc
购置日期： 2019-09-30
规格型号： GENxplor,三个腔室，兼容3英寸，2英,10x10
放置地址：115
仪器管理员：王改利
联系电话：登录后查看
| 工作时间： | 09:00-12:00;14:00-18:00 |
|---|---|
| 最小可预约时间段： | 0.5 小时 |
| 最大可预约时间段： | 168 小时 |
| 日历最小单位： | 0.5 小时 |
| 最近提前预约时间： | 未授权用户: 24小时； 普通资格用户: 24小时； 资深资格用户: 24小时 |
| 最远提前预约时间： | 初级: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点 |
| 最大有效预约次数： | 5 次/天 |
| 无代价撤销预约时间： | 1440 分钟 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
|---|
| 序号 | 标题 | 添加时间 |
|---|---|---|
| 暂无数据 | ||
| 仪器介绍： | 分子束外延是在超高真空条件下生长高纯薄膜晶体的一种顶尖的薄膜生长手段，相比其他生长方法具有较高的优越性，比如可以生长纳米级的量子点、纳米线，可以在原子层量级精确控制薄膜厚度和掺杂度、通过衬底的晶格来调控薄膜的轨道基本态和生长超晶格结构，可以实现通过人为生长进行能带工程的剪裁等。 |
|---|
| 主要参数： | 生长室最高工作温度：1200℃，可升级到1800℃；生长材料：GaN,AlN,InN等，可进行Mg,Si等掺杂；真空度：进样室优于5E-8Torr，预处理室优于9E-10Torr，生长室优于5E-11Torr |
|---|
