仪器编号：登录后查看
所属平台： 其他
仪器状态：
所属单位： 浙江大学 > 信息与电子工程学院 > 微纳加工中心
仪器生产商： 日本Panasonic Smart Factory Solu
购置日期： 0000-00-00
规格型号： APX300-S
放置地址：111
仪器管理员：陈长鸿
联系电话：登录后查看
反应离子干法刻蚀机
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| 工作时间： | 09:00-12:00;14:00-18:00 |
|---|---|
| 最小可预约时间段： | 0.25 小时 |
| 最大可预约时间段： | 8 小时 |
| 日历最小单位： | 0.25 小时 |
| 最近提前预约时间： | 未授权用户: 24小时； 普通资格用户: 24小时； 资深资格用户: 24小时 |
| 最远提前预约时间： | 初级: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点 |
| 最大有效预约次数： | 5 次/天 |
| 无代价撤销预约时间： | 240 分钟 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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| 序号 | 标题 | 添加时间 |
|---|---|---|
| 暂无数据 | ||
| 仪器介绍： | <table width="72" cellspacing="0" cellpadding="0"><colgroup><col width="72"/></colgroup><tbody><tr class="firstRow" height="19"><td class="xl65" style="word-break: break-all;" width="50" height="14">功能及特色：主要应用于Al金属薄膜材料的刻蚀，具有刻蚀速率高、各向异性好等优点。主要应用于半导体材料、Si、SiO2、SiNx、光刻胶等薄膜的干法刻蚀，具有刻蚀速率高、各向异性好等优点。<br/>服务内容：微电子学的快速发展推动器件的制作工艺进入微纳米技术时代，湿法刻蚀难以满足越来越高的精度要求。干法刻蚀可从根本上改善湿法所固有的横向钻蚀问题，从而满足微细线条刻蚀的要求。该设备主要服务于小尺寸器件制造工艺。<br/>服务内容：该设备广泛应用于半导体器件和集成电路的小尺寸器件制造工艺，还应用于薄膜电路、印刷电路和其他微细图形的加工。</td></tr></tbody></table> |
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| 主要参数： | RF离子源： 1000W, 13.56MHz ICP离子源：1000W, 13.56MHz 样品尺寸： 最大6英寸, 25片 Si最大刻蚀速率： ≥6μm/min |
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