仪器编号：登录后查看
所属平台： 其他
仪器状态：
所属单位： 浙江大学 > 信息与电子工程学院 > 微纳加工中心
仪器生产商： 中国上海实贝仪器设备厂
购置日期： 2018-11-28
规格型号： PVD-090-HMDS
放置地址：玉泉校区 > 微电子楼（功率器件研究楼） > 一层 > 超净室内103
仪器管理员：孙颖
联系电话：登录后查看
| 工作时间： | 06:30-24:00 |
|---|---|
| 最小可预约时间段： | 0.5 小时 |
| 最大可预约时间段： | 168 小时 |
| 日历最小单位： | 0.25 小时 |
| 最近提前预约时间： | 未授权用户: 0小时； 普通资格用户: 0小时； 资深资格用户: 0小时 |
| 最远提前预约时间： | 初级: 30 天 0 点； 普通: 30 天 0 点； 资深: 10 周 0 点 |
| 最大有效预约次数： | 10 次/天 |
| 无代价撤销预约时间： | 30 分钟 |
| 仪器介绍： | 该设备为HMDS真空烘箱，可用于半导体光刻工艺中硅片表面改性；HMDS高温工艺增加光刻胶对硅片的黏附性。 HMDS真空烘箱，可用于光刻工艺中玻璃衬底、二氧化硅蹭、ⅢⅤ族半导体衬底等的表面改性，HMDS高温工艺增加光刻胶对衬底的黏附性。 可设置和修改5组工艺条件，自动画面调用1组工艺条件，可自动控制前充氮、充液、保持、后充氮的整个工艺流程。 |
| 主要参数： | 1.基片尺寸：支持2、3、4、6、8、12英寸基片及各种尺寸碎片 2.温度范围：RT～160℃ 3.温度精度：＋/-1℃@100℃ 4.加热时间：30min @RT~160℃ |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
|---|
检测项目名称：衬底表面增粘处理
检测资质：无
检测单位：微纳加工中心
仪器数量：1
| 序号 | 标题 | 添加时间 |
|---|---|---|
| 1 | 图形转移工艺流程及设备选用 | 2026-06-12 22:29:33 |
| 备案收费标准 | 登录后可查看 |
|---|---|
| 说明：原则上按备案收费标准执行，实际收费标准可在仪器预约时查看或咨询仪器管理员。 | |
