仪器编号：登录后查看
所属平台： 其他
仪器状态：
所属单位： 浙江大学 > 生物系统工程与食品科学学院 > 智能农业装备研究所
仪器生产商： Kurt J. Lesker Company
购置日期： 2020-11-12
规格型号： ProLine PVD 75,工艺腔内部尺寸：15.25 x 16.50x 2
放置地址：D545
仪器管理员：谢丽娟
联系电话：登录后查看
| 工作时间： | 09:00-12:00;14:00-18:00 |
|---|---|
| 最小可预约时间段： | 0.5 小时 |
| 最大可预约时间段： | 168 小时 |
| 日历最小单位： | 0.5 小时 |
| 最近提前预约时间： | 未授权用户: 24小时； 普通资格用户: 24小时； 资深资格用户: 24小时 |
| 最远提前预约时间： | 初级: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点 |
| 最大有效预约次数： | 5 次/天 |
| 无代价撤销预约时间： | 1440 分钟 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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| 序号 | 标题 | 添加时间 |
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| 暂无数据 | ||
| 仪器介绍： | 金属薄膜制备 |
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| 主要参数： | 镀膜室：a.极限真空：2×10^-6Pa。b.溅射靶及电源：直径3英寸溅射靶两只，其中一只为进口产品配进口600W射频电源，另一只为国产溅射靶配1000W国产直流电源。真空室预留第三个溅射靶的位置。c.基片转台及基片架：基片加热温度室温-800度，温度调节精度±1○C，基片架旋转速度30～300转/分可调，基片架可放置≤3英寸衬底，基片架带有电控挡板。d．基片有效镀膜直经：3吋，整个基片上的薄膜厚度不均匀度≤5﹪，其中薄膜中心距离直径2英寸处厚度不均匀≤1﹪e．监控装置：进口晶体膜厚监测仪探头及移动架一支f．气体流量计及控制器：4支国产气体流量计以及一带四控制器一台。 |
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