双束聚焦离子束微纳加工仪（FIB、EBSD、球差电镜、EELS）

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仪器介绍：	本设备双束聚焦离子束配备先进的离子束镜筒，利用精确控制的Ga+离子束，实现纳米级的精准加工能力；配备高亮度电子束镜筒，实现分辨率高达0.7nm的高质量成像；配备多种金属GIS，实现精准的电路修补，图形生成等功能。常用功能可概括为表面/截面样品制备（适用TEM/SEM），精确图形生成（刻蚀方法/沉积方法），高质量表征（SEM/TEM/EDX-mapping/EBSD）机组提供各类样品制备，透射电镜表征，实验方案设计一站式服务，只需联系仪器负责人（QQ号：532726467）说明需求即可统一安排。机组特色服务：块体样品制样服务 30kV超低压透射表征，适用组织切片、胶原、等电子束敏感材料表征 80kV低压高分辨表征，适用组织切片、胶原、细胞等电子束敏感材料表征原位加热测试（含制样），实现各类样品在不同温度条件下结构演化过程的高质量追踪原子级二次电子（SE）成像原子级EDX-mapping表征原子级EELS表征高级操作培训，面向长期有个性化需求用户，针对性设计方案，提供培训

仪器介绍：

本设备双束聚焦离子束配备先进的离子束镜筒，利用精确控制的Ga+离子束，实现纳米级的精准加工能力；配备高亮度电子束镜筒，实现分辨率高达0.7nm的高质量成像；配备多种金属GIS，实现精准的电路修补，图形生成等功能。

常用功能可概括为表面/截面样品制备（适用TEM/SEM），精确图形生成（刻蚀方法/沉积方法），高质量表征（SEM/TEM/EDX-mapping/EBSD）

机组提供各类样品制备，透射电镜表征，实验方案设计一站式服务，只需联系仪器负责人（QQ号：532726467）说明需求即可统一安排。

机组特色服务：

主要参数：	电子源:FEG离子源:Galliumliquidmetal加速电压：SEM≤30KVFIB≤30KV，束流≤60nASEM二次电子像分辨率:≤1.2nm@高压模式≤2.8nm@低压模式FIB分辨率≤7nm