双面光刻机应用于课题组内先进转印集成技术，可延展柔性电子器件力学，人机界面三大主要方向。该双面光刻机具有超高的对准精度，能将上下两面的图案精准对齐，误差可控制在极小范围内，有助于生产出高性能、高密度的芯片，推动电子设备的小型化与智能化。可实现双面同步扫描光刻，减少了翻面及检测对准的时间和精度误差。能稳定且均匀地进行曝光操作，可适应不同材料与工艺需求，为精细部件的双面加工提供保障。

1）工件台不动，曝光系统和对准系统整体前后移动来切换，行程短，效率高，稳定性好；

2）西门子PLC+伺服电机，性能相对更稳定，更可靠；

3）操作既可在PLC屏进行操作，也可以在设备左侧的操作按键进行操作，可以有效避免员工的误操作；

4）橡胶阻尼减震平台一体模式；

5）增加样品台粗定位、粗调平功能，可以有效缩小二次套刻对准时间，对准稳定性，一致性相对更好些；

6）对准精度：±1 um；