提供离子镀膜和离子抛光服务，精度（粗糙度）满足Ra≤0.5nm

提供常用的金属和介质靶材（如Al，Zn，Ti，Mo，W，Si，ITO等），并支持氧化反应溅射（Al2O3，TiO2，SiO2等）；特殊和贵金属靶材需自备