基本信息

  • 生产厂商 SENTECH仪器（德国）有限公司
  • 资产编号 23003515
  • 资产负责人 骆季奎
  • 购置日期2023-03-24
  • 仪器价格195.86 万元
  • 仪器产地德国
  • 仪器供应商赛尔网络有限公司
  • 购买经办人
  • 主要配件
  • 主要参数1.样品尺寸：兼容6英寸及以下尺寸的晶圆和碎片； 2.反应腔本底真空度≤1E-6mbar，漏率2E-4mbar•l/s； 3.预真空室：配置独立干泵，本底真空≤0.1mbar，漏率≤5E-4mbar•l/s； 4.控温范围-30°C…+250℃，控温精度±1℃； 5.射频源：频率13.56MHz，功率600W，反射功率<5%。

仪器介绍

该设备采用反应离子刻蚀模式，实现对硅和硅化合物、例如SiO2、SiNx、SiC等材料的干法刻蚀。