在传统的激光刻蚀过程中，研究人员需要先利用特定图形的掩模板对光刻胶曝光。但是在产品研发阶段，样品图案是需要经常修改的，而掩模板的制作却非常耗时，不能满足研究者缩短研发周期的需求。激光直写系统则专门为研究机构提供了这样一个快捷灵活的解决方案。它可以在不需要掩模板的情况下，直接对光刻胶书写图案，从而使得激光刻蚀过程更加快捷方便，在研发初期可以大大缩短实验周期，节省时间。同时，这一设备具有256级灰阶，可以控制激光强弱，从而实现三维图形的曝光，可一次性得到不同高度的图形。