基本信息

  • 生产厂商 Kurt J. Lesker
  • 资产编号 11024654
  • 资产负责人 SAILING HE
  • 购置日期2011-12-23
  • 仪器价格149.06 万元
  • 仪器产地美国
  • 仪器供应商
  • 购买经办人
  • 主要配件
  • 主要参数最大膜厚：300nm最长镀膜时间：1小时24小时最大靶材利用率：30%靶数量：3个电源：2个基片数量：1*2“

仪器介绍

在真空环境下，利用物理沉淀的方式（包括磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发、有机蒸发等，本台设备主要选用磁控溅射的方式）在材料基片表面匀镀一层微纳尺度的金属或半导体膜。