基本信息

  • 生产厂商 日本日立
  • 资产编号 13013721
  • 资产负责人 原帅
  • 购置日期2013-10-21
  • 仪器价格491.77 万元
  • 仪器产地日本
  • 仪器供应商
  • 购买经办人
  • 主要配件
  • 主要参数SEM分辨率：高真空：3.0nm（30kV）；10nm（3kV）低真空：4.0nm（30kV）放大倍数:5-300,000加速电压：0.3-30kV多种步进调压方式FIB1主要参数：(加速电压40kV)图像分辨率6nm最大束流强度60nA或更高最大束流密度50A/cm2或更高放大倍率(显示倍率)60X至300,000X2离子光学：离子源Ga束流光阑马达驱动控制透镜/偏转电极2级静电式透镜/8级静电式偏转电极沉积膜2种气体源（钨和碳）加速电压：40kV(max.)(10,15,20,25,30,35,40kV可选)最小离子束直径：小于6nm(加速电压40kV下)

仪器介绍

各种材料形貌观察和分析，如金属、半导体、陶瓷、高分子材料、有机聚合物等;材料微纳结构的样品制备，包括：SEM在线观察下制备TEM样品、材料微观截面截取与观察、样品微观刻蚀与沉积等.